真空甩帶熔煉澆鑄一體爐（真空甩鑄爐）設(shè)備特點(diǎn) 設(shè)備用途：

該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。

A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料

B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。

一、真空甩帶熔煉澆鑄一體爐結(jié)構(gòu)及功能簡介

采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進(jìn)出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小，采用高頻電源加熱，主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉澆鑄處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。還可進(jìn)行非晶甩帶，噴鑄和壓鑄處理，一臺設(shè)備，多種功能。

二、技術(shù)參數(shù)

1、每次甩帶、噴鑄合金：50g~300g

2、每次熔煉澆鑄合金：50~1000g

3、高真空室真空度：≤10×10E-3Pa

4、加熱電源功率：25Kw；頻率范圍：30~80KHz

5、可通入氮?dú)狻鍤獾榷栊詺怏w

6、壓鑄：5~10T壓力

7、銅輥直徑：220mm，寬度：40mm

8、銅輥線速度：5~70m/S

9、水流量：3~100L/min

三、結(jié)構(gòu)說明

1、真空腔體：由爐體、爐蓋和爐底組成；爐體由304不銹鋼法蘭和內(nèi)外筒體組焊而成，內(nèi)壁鏡面拋光，爐體上開設(shè)有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉(zhuǎn)電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預(yù)熱電源電極引入接口；爐蓋由整體實心304加工而成，上面開設(shè)有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內(nèi)的各種實驗情況；爐底也是由整體實心304加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。

2、熔煉裝置：由 IGBT超音頻電源、水冷電纜、旋轉(zhuǎn)電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現(xiàn)不同容量。極限溫度可加熱至1700℃。（容量按照50g,200g,500g,1000g來配），熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內(nèi)。

3、噴鑄裝置：由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現(xiàn)小容量溶液的噴帶和噴鑄。（噴鑄配石英管，極限容量50g）

4、甩帶裝置：由噴鑄裝置、高速伺服電機(jī)、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調(diào)節(jié)電機(jī)速度，實現(xiàn)不同銅棍線速度。

5、壓鑄裝置：由特殊加壓裝置、壓架、底座、壓頭和母模等組成，當(dāng)溶液澆鑄或者噴鑄到母模內(nèi)，啟動加壓裝置對工件加壓，提高其致密性。壓鑄底部壓頭有定位槽，保證上下壓頭同心度；底部壓頭可調(diào)節(jié)高度；整套壓力架支撐在地上。

爐體底部有防漏盤，防止熔液損壞真空腔體。

6、模具預(yù)熱系統(tǒng)：為防止?jié)茶T到母模內(nèi)的溶液冷卻過快，特在母模外部加裝感應(yīng)線圈預(yù)熱，由一臺7.5Kw IGBT超音頻電源、水冷銅接頭和線圈等組成，如果不用預(yù)熱，也可取下感應(yīng)線圈，用悶頭密封。預(yù)留有兩路進(jìn)出水，水流量可通過流量計來控制(專門用于水冷銅模)。

7、抽真空系統(tǒng)：由一臺擴(kuò)散泵、一臺雙極直聯(lián)泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態(tài)極限真空度優(yōu)于6.67×10E-3Pa。

8、爐體支架：由型材和鋼板拼裝而成，門板全部采用數(shù)控加工，尺寸精度高，外表噴塑處理，整體布局合理，顏色搭配美觀。和電控柜采用一體結(jié)構(gòu)。

9、電氣控制系統(tǒng)：各種電氣元器件采用，按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制作而成。面板采用模擬屏，可直觀控制設(shè)備的各部件，并有水欠壓、斷水聲光報警并自動切斷加熱功能。

10、水冷卻系統(tǒng)：由水冷機(jī)、各種閥門和水管等組成，帶有電接點(diǎn)水壓表，具有超壓、欠壓報警功能。（水冷機(jī)為選配件）